塑料薄膜生产线微晶硅设备 金纬片板设备制造

二氧化名称：二氧化（CeO2）使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧化，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。

聚乙烯分子上基本不带极性基团，是一种非极性印高分于，聚分子中，每个结构单元上都含有一，这分种弱极性基团，基本上也属于非极性高分子，因此，它们对油墨的亲和性都比较差，所以在印刷前在印刷前要经过处理后才能得到满意的印件。处理方法大多是通过氧化，使之增加极性，使表面结构发生变化。具体的处理方法有放电（俗称电晕、电火花）法、火焰法、紫外线辐射法、酸（硫酸、铬酸）处理法等几种。而以放电法比较简单而普及。

 本设备广泛运用在太阳能电池上，透明导电膜作为减反射层和透明电极使用，可以提高太阳能的转换效率，降低成本，无毒环保，膜层稳定，同时可以消除立式生产线无法大规模生产的弊端，可以大大提高生产量。

    设备采用大面积溅射技术，镀膜机宽度大，可以同时处理很多基片，特别适用于极低成本、高生产率应用，该系统也适用于其他小尺寸和非常薄的基片。

    由于采用模块化设计，镀膜线可以配备旋转磁控管，以溅射沉积透明导电氧化物膜层或者多种其他材料，例如金属和金属氧化物，可以在真空状态下或在基片进入真空状态之前对基片进行预处理，比如对基片进行清洗或蚀刻。